我們新研發(fā)U-CDI除鹽裝置無論是在系統(tǒng)方面還是投資方面，都為客戶節(jié)約了很大成本。我們生產(chǎn)的本套裝置采用窄流道技術(shù)。

　　本套裝置淡水流道方面性能具有極大優(yōu)勢，離子遷移行程較短，產(chǎn)水電阻率高而且除硅效果好。在節(jié)能方面，因?yàn)樵O(shè)計(jì)流道比較窄，模塊的內(nèi)電阻比較低，消耗電能低。

　　系統(tǒng)優(yōu)勢：

　　解決負(fù)荷和結(jié)垢問題：采用膜脫氣技術(shù)同時(shí)解決離子負(fù)荷及硬度結(jié)垢問題。

　　放寬進(jìn)水條件：擴(kuò)大了TDS的進(jìn)水條件及硬度的進(jìn)水條件。

　　優(yōu)化除硅能力：同時(shí)進(jìn)水負(fù)荷條件下，整體優(yōu)化EDI的除硅能力。

　　延長清洗周期：大大減少U-CDI污染，從而減少清洗維護(hù)的頻率。

　　工藝流程縮短：整個(gè)流程縮短，減少了水的二次提升。

　　投資優(yōu)勢

　　土建投資：占地面積小，土建投資省。

　　減少運(yùn)行費(fèi)用：減少了整個(gè)RO和U-CDI系統(tǒng)的用電能源消耗。

　　延長EDI使用壽命：減少了清洗維護(hù)的頻率，延長了EDI模塊使用壽命。

　　減少工程投資：大大減少反滲透技術(shù)和整體工程的初期投資，該工藝整體投資比采用“傳統(tǒng)工藝”技術(shù)的初期投資要節(jié)省約30%。